Ansys Zemax?成像設計線下培訓

2025年2月28日下午,年后首場Ansys Zemax 成像設計線下培訓在湖北武漢光谷圓滿結(jié)束,快來看一下現(xiàn)場的精彩瞬間吧↓↓↓

01 實戰(zhàn)演練，技能提升

本次培訓通過理論結(jié)合實踐的教學模式，助力參訓人員掌握了從簡單單透鏡設計到復雜雙高斯鏡頭設計和公差分析等多個技能，同時也提升了在光學鏡頭設計、優(yōu)化和分析方面的能力。

02 互動交流，共同進步

培訓期間設置自由交流時段，參訓工程師們自發(fā)形成多個技術討論組，圍繞實際工作中的復雜光學問題展開深入交流。

03 總結(jié)

經(jīng)過線下三天的高強度研習，參訓工程師們系統(tǒng)構(gòu)建了Zemax成像設計的基礎概念到高級應用的知識體系，還對光學成像有了更全面、深入的理解。

本次培訓采用小班制教學，確保每位參訓工程師都能得到個性化技術指導。

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